Wszystkie produkty
słowa kluczowe [ semiconductor process gases ] mecz 38 produkty.
Bezbarwny 193nm Medycyna Estetyka Gaz premiksowy F2 Kr He Ne Excimer Gas
| Nazwa produktu: | Ekscymerowy gaz laserowy |
|---|---|
| Objętość cylindra: | 16L/20L/49L |
| Aplikacja: | Chirurgia refrakcyjna / litografia |
16L 20L 49L Cylinder Ar Xe Ne Laser Mix Gaz do chirurgii LASIK
| Nazwa produktu: | Ekscymerowy gaz laserowy |
|---|---|
| Długość fali: | 193 nm |
| Zawór: | CGA 679/DIN 8 (można dostosować) |
F2 Kr He Ne Premixed Excimer Gas Laser Mix Używana litografia gazowa
| Nazwa produktu: | Ekscymerowy gaz laserowy |
|---|---|
| Długość fali: | 193 nm |
| Aplikacja: | Chirurgia refrakcyjna / litografia |
Wysoki poziom bezpieczeństwa F2 Ar Xe Ne Premix Gas Excimer Laser z dostosowanym zaworem
| Nazwa produktu: | Ekscymerowy gaz laserowy |
|---|---|
| Długość fali: | 193 nm |
| Aplikacja: | Chirurgia refrakcyjna / litografia |
F2 Ar Xe Ne Laser Wstępnie zmieszany gaz do lasera ekscymerowego 16L 20L 49L Objętość cylindra
| Nazwa produktu: | Ekscymerowy gaz laserowy |
|---|---|
| Długość fali: | 193 nm |
| Aplikacja: | Chirurgia refrakcyjna / litografia |
KMTGASES F2/Kr/He/Ne Excimer Laser Gas Dostosowywalny gaz wstępnie zmieszany
| Nazwa produktu: | Ekscymerowy gaz laserowy |
|---|---|
| Długość fali: | 193 nm |
| Zastosowanie: | Chirurgia refrakcyjna / litografia |
KMTGASES Mieszanka gazów F2 o wysokiej czystości F2 Kr He Ne Excimer Gas do litografii
| Nazwa produktu: | Ekscymerowy gaz laserowy |
|---|---|
| Długość fali: | 193 nm |
| Aplikacja: | Chirurgia refrakcyjna / litografia |
Mieszanki gazów laserowych do przechowywania butli Ar Xe Ne do chirurgii LASIK
| Nazwa produktu: | Mieszanina gazów laserowych |
|---|---|
| Zawór: | CGA 679/DIN 8 (można dostosować) |
| Długość fali: | 193 nm |